时间： 2021-06-10    信息来源: 黑龙江省科技成果转化中心    

 项目简介：
随着我国逐步形成全球制造中心以及我国的机械工业、汽车工业等行业快速发展，紧固件的需求量快速增长。紧固件工业的飞速发展，或多或少给人类赖以生存的环境造成了一些危害，目前急需发展一种绿色镀膜技术。真空镀膜技术工艺流程简单，不需要消耗铜、镍、镉等贵金属，不使用强酸、强碱、氰化物和铬酐等有毒有害化学品，污染物（特别是重金属、氰化物）排放少；水耗较低，只需少量循环冷却用水。同时，还可提高镀制产品的质量，增加镀膜品种，实现节能、减排、降耗、增效的目的。 本项目采用离子镀+磁控溅射弧光辉光协同共放电气相沉积（arc plating sputtering cement deposition， APSCD）的方法制备混合薄膜，完成了一套弧光辉光协同共放电(ACPCD)真空镀膜机的改造。通过ANSYS模拟和计算对旋转圆柱磁控溅射靶磁场强度进行了分析，利用模拟分析改变磁铁的尺寸和分布进行结构优化，提高了靶材的溅射速率，改进了薄膜沉积的均匀性。通过射频/直流放电等离子辅助磁控溅射方法，在紧固件表面沉积各种陶瓷膜，研究了其与不同材料的紧固件的结合强度和各界面之间的结合机理。同时采用各种电化学联合测试技术，研究了典型紧固件镀层的腐蚀行为，明确了不同性质镀层的腐蚀机理。采用均匀设计优化试验方法对镀膜工艺参数进行了综合优化。通过探讨TiN薄膜性能的控制研究，在显微硬度、膜层厚度、表面形貌、物质成分、耐腐蚀性等薄膜性能方面进行了研究，并分析了负偏压、Ar/N2流量之比、工作气压三个工艺参数对薄膜性能的影响规律，为我国加快推广绿色镀膜这一节能减排、清洁生产技术提供理论指导。

更多内容! 欢迎扫描上方二维码 关注“黑龙江省博览发展促进中心微新闻”微信订阅号